碳化硅（SiC）圆形镜面是一种基于反应烧结或化学气相沉积（CVD）技术制备的高性能光学基材，具有接近零热膨胀系数（1.5×10⁻⁶/°C）、超高热导率（200W/m·K）及亚纳米级表面粗糙度（Ra≤0.5nm）等特性。专为高功率激光器、太空望远镜、半导体光刻机及红外光学系统设计，可显著提升镜面在极端温度、辐射及机械载荷下的稳定性，是替代、金属反射镜的尖端材料。
核心优势
✅ 极致热稳定性：热膨胀系数＜2×10⁻⁶/°C（20-400°C），热变形量仅为玻璃镜面的1/50。
✅ 超高导热性能：热导率200W/m·K，快速散热避免热透镜效应，适配千瓦级激光系统。
✅ 超精密光学表面：抛光后粗糙度Ra≤0.5nm，反射率＞99.5%@1064nm（镀）。
✅ 轻量化高刚性：密度3.1g/cm³，抗弯强度≥400MPa，比刚度（E/ρ）是熔融石英的4倍。
✅ 全环境耐受性：抗辐射、耐酸/碱腐蚀，工作温度范围-200°C至1650°C。
技术规格
| 参数 | 规格详情 |
|---|---|
| 材质类型 | 反应烧结碳化硅（RB-SiC）、化学气相沉积碳化硅（CVD-SiC） |
| 镜面直径 | 10-1500mm（标准款），可定制2m以上超大尺寸 |
| 面形精度 | λ/20@632.8nm（RMS），λ/10 PV（高能激光级） |
| 表面粗糙度 | Ra≤0.5nm（抛光+镀膜后） |
| 热膨胀系数 | 1.5-4.2×10⁻⁶/°C（20-400°C，视工艺而定） |
| 镀膜选项 | 金（Au）、银（Ag）、介质膜（HR@1064nm/10.6μm）、抗激光损伤膜（＞10kW/cm²） |
| 认证标准 | ISO 10110、MIL-PRF-13830、NASA低释气（ASTM E595） |
应用场景
- 高能激光系统：
- 工业激光切割头聚焦镜、光纤激光器谐振腔镜、超快激光啁啾镜。
- 定向能武器反射镜、激光核聚变装置光束导向镜。
- 航天与天文光学：
- 太空望远镜主/副镜、卫星多光谱成像仪镜面、深空探测红外镜头。
- 高地观测系统、星载激光通信终端反射镜。
- 半导体与精密制造：
- EUV光刻机反射镜基板、晶圆检测设备干涉镜。
- 红外热像仪窗口、高精度光学测量系统参考镜。
- 科研与特殊环境：
- 同步辐射光束线镜面、核反应堆中子光学组件、高温工业过程监控镜。
为什么选择我们的碳化硅镜面？
- 材料与工艺领先：
- CVD-SiC镜面：单晶硅级表面质量，适用于EUV光刻等超精密光学系统。
- RB-SiC镜面：低成本大尺寸方案，兼容轻量化蜂窝/闭孔结构设计。
- 全流程品控体系：
- 干涉仪（Zygo/MetroPro）全口径面形检测、白光轮廓仪粗糙度分析、激光损伤阈值测试（ISO 21254）。
- 提供热变形仿真报告与镀膜光谱性能曲线。
- 定制化服务能力：
- 支持非球面、自由曲面及微结构镜面加工，孔径/非孔径遮拦设计。
- 镜坯-抛光-镀膜-装调一站式交付，缩短客户供应链周期。
- 全球技术支持：
- 提供光学设计辅助、热力学仿真优化及在轨性能监测服务。
