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碳化硅微孔陶瓷吸盘

参数 规格明细
材料纯度 SiC ≥99.5%,游离硅≤0.5%
孔隙率 30%-70%(梯度孔隙可定制)
平均孔径 1-50μm(激光打孔/造孔剂工艺)
导热率 120W/m·K(25°C)
抗弯强度 ≥150MPa(多孔结构)
平面度 ≤0.005mm(精密磨削加工)
认证标准 SEMI F47(半导体设备)...

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一、多孔碳化硅陶瓷吸盘的核心优势

多孔碳化硅陶瓷吸盘(Porous SiC Ceramic Chuck)以高纯度碳化硅粉体为基材,通过反应烧结(RBSN)或凝胶注模工艺制成,兼具多孔结构与碳化硅的卓越性能:

  • ✅ 超高导热性:导热率120W/m·K(是氧化铝的5倍),快速散热,减少热应力变形。
  • ✅ 极端耐温性:长期耐温1600°C,抗热震性△T≥500°C(水冷骤变),适配高温制程。
  • ✅ 精密微孔吸附:孔隙率30%-70%,孔径1-50μm可控,真空吸附力≥0.08MPa,适配超薄晶圆/柔性基材。
  • ✅ 耐腐蚀耐磨:抗酸碱(PH 1-14)、等离子体侵蚀,硬度HV10 2200-2800,寿命是石墨吸盘的3倍。

二、核心应用场景

  1. 半导体与电子工业

    • 晶圆键合/临时键合:多孔均匀吸附,平面度≤0.005mm,适配12英寸晶圆减薄与键合工艺。
    • 光刻机热管理:快速导热,控制硅片温度波动≤±0.1°C,提升曝光精度。
  2. 光伏与新能源

    • PERC/TOPCon电池烧结炉:耐温1600°C,承载硅片不变形,碎片率≤0.01%。
    • 碳化硅外延托盘:高纯度(金属杂质≤1ppm),适配SiC外延生长(MOCVD/MBE)。
  3. 激光与精密加工

    • 高功率激光切割吸盘:抗激光烧蚀(功率密度≥1kW/cm²),适配玻璃/陶瓷切割。
    • 3D打印基板:多孔透气性,减少粉末粘附,提升打印件剥离效率。
  4. 高温工业设备

    • 烧结炉承载板:抗高温蠕变,承重≥50kg/m²(1600°C),适配陶瓷/金属粉末烧结。
    • 真空钎焊夹具:耐焊料(Ag-Cu-Ti)腐蚀,重复使用≥1000次。

重庆及锋科技服务优势

  • 全流程定制
    • 孔隙设计:均匀孔/梯度孔/定向通道,适配真空吸附、气体渗透等需求。
    • 表面处理:CVD碳化硅涂层(耐磨)、抗氧化涂层(SiO₂/Al₂O₃)。
    • 尺寸规格:直径φ100mm-φ600mm,厚度5-50mm,支持异形结构(扇形/矩形)。
  • 成本优势:国产高纯度碳化硅粉体,价格比进口品牌低40%-60%。
参数 规格明细
材料纯度 SiC ≥99.5%,游离硅≤0.5%
孔隙率 30%-70%(梯度孔隙可定制)
平均孔径 1-50μm(激光打孔/造孔剂工艺)
导热率 120W/m·K(25°C)
抗弯强度 ≥150MPa(多孔结构)
平面度 ≤0.005mm(精密磨削加工)
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